原子层沉积

原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。

原子层沉积二氧化硅需要加热。它是一种化学气相沉积技术，利用高温反应使气态前驱体分解成反应物，从而在表面生成一层单原子层表面涂层。

原子层沉积是一种通过化学气相沉积技术将薄膜沉积在基板表面的方法。在原子层沉积过程中，每层薄膜的厚度仅有单个原子的厚度，在每一层沉积过程中需要几秒钟的时间。

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